Ionen Multi-Strahl Lithographie

Ion Multi Beam Lithography, (IMBL)

Elmar Platzgummer (ORCID: )

Wissenschaftsdisziplinen

Elektrotechnik, Elektronik, Informationstechnik (75%); Physik, Astronomie (25%)

Keywords

    MIKROLITHOGRAPHIE, IONENSTRAHLTECHNIK, NANOTECHNIK

Forschungsstätte(n)
Nationale Projektbeteiligte
  • Hans Löschner, assoziierte:r Forschungspartner:in