Erzeugung von Plasma VUV und Röntgenquellen mit intensiven ultrakurzen 5-20 fs Laserpulsen

Mit einer derzeit einzigartig verfügbaren Ti:Sa Laserquelle, die durch Pulslängen von 20 fs bis zu 5 fs bei Pulsenergien von 1 mJ mit 1 kHz Repititionsrate charakterisiert ist, werden grundlegende Untersuchungen zur Laser Materie Wechselwirkung bei sehr hohen Intensitäten oberhalb von 10E16 W/cmxcm vorgeschlagen. Die in Folge dieser Laserbestrahlung entstehenden Plasmen sind außerordentlich interessant, da man bisher nicht solche Wechselwirkungen mit einigen wenigen Schwingungsperioden eines Laserpulses realisieren konnte, die die Materie instantan ionisieren. Die Kurzpuls-Plasmen selbst sind intensive Quellen von VUV und Röntgenstrahlung, die spektroskopiert werden, um Strahlungs- und Plasmaeigenschaften zu charakterisieren. Insbesondere sollen Plasmaanordnungen (ausgedehnter Plasmakanal) erzeugt werden, die zu einer Verstärkung kurzwelliger Strahlung (Röntgenlaser) fahren. Diese Quellenexperimente werden sehr stark durch die Forderung motiviert, effiziente kompakte Kurzpuls Laborquellen hoher Spitzenbrillianz im VUV und Röntgenbereich für biologische und physikalisch-chemische Untersuchungen zu schaffen. Die vorgeschlagene Arbeit soll durch das in eine sehr gute funktionierende Infrastruktur eingebettete Lasersystem der Gastgeber mit extraordinären Pulsparametern in Kombination mit den eingebrachten Kenntnissen des Antragstellers auf den Gebieten der experimentellen Laser- Plasma-Wechselwirkung und Plasmaröntgendiagnostik zu neuen relevanten Ergebnissen fahren.